차세대 반도체 '흑린' 두께 자유자재로 조절한다



산화하는 단점 역이용해 박막 두께 원하는 대로 식각



한국표준과학연구원 권혁상·김정원 박사
포스텍 류순민 교수 공동 연구팀
흑린의 단점을 역이용해 흑린 박막을 원하는 두께로 식각할 수 있는 기술을 개발



http://www.yonhapnews.co.kr/bulletin/2016/10/27/0200000000AKR20161027081800063.HTML?input=1195m



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